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光學(xué)輪廓測量評估超臨界 CO?設(shè)備密封平面度防腐抗萃取（An...

正文超臨界 CO?（Supercritical CO?，SCO?）高壓工況流體滲透性強(qiáng)，易萃取密封防護(hù)層組分，密封端面 \\ 平面度（Flatness）缺陷形成的...

光學(xué)輪廓測量評估超臨界 CO?設(shè)備密封平面度防腐抗萃取（Anti-extraction）性能

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鈣鈦礦薄膜激光劃線熱損傷控制與劃線公差精密管控工藝研究

摘要鈣鈦礦光伏量產(chǎn)中，激光劃線產(chǎn)生的薄膜熱損傷是造成晶體畸變、組分流失、器件效率衰減的關(guān)鍵工藝缺陷。本文從皮秒激光參數(shù)優(yōu)化 + 低溫氣氛退火實(shí)現(xiàn)熱損傷抑制，依托 ...

鈣鈦礦薄膜激光劃線熱損傷控制與劃線公差精密管控工藝研究

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白光干涉儀（White Light Interferomet...

一、研究背景超薄薄膜構(gòu)件（Ultra-thin Film Component）是微納光學(xué)、半導(dǎo)體封裝（Semiconductor Packaging）、柔性電子（...

白光干涉儀（White Light Interferometer, WLI）高精度表征下超薄薄膜（Ultra-thin Film）表面瑕疵與工藝誤差關(guān)聯(lián)性研究

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MEMS梳齒結(jié)構(gòu)線寬齒距失準(zhǔn)，白光干涉儀校準(zhǔn)光刻制程修正尺寸...

MEMS 慣性器件性能高度依賴梳齒電容尺寸精度，光刻量產(chǎn)受曝光能量波動、晶圓平整度、掩模形變、顯影速率差異影響，普遍產(chǎn)生梳齒線寬偏移、齒距不均、側(cè)壁傾斜等尺寸失準(zhǔn)...

MEMS梳齒結(jié)構(gòu)線寬齒距失準(zhǔn)，白光干涉儀校準(zhǔn)光刻制程修正尺寸偏差

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