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              新啟航半導體有限公司


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              USI白光掃描多層微納工件形貌檢測數據異常機理分析
              本文依據設備官方技術手冊及工業實測公開數據,聚焦通用掃描干涉算法(Universal Scanning Interferometry, USI)在半導體低反透明介...
              USI白光掃描多層微納工件形貌檢測數據異常機理分析
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              高頻板材銅箔粗糙度過大,白光干涉儀削弱 集膚效應 (Ski...
              高頻印制電路板(Printed Circuit Board, PCB)高速信號傳輸過程中存在集膚效應(Skin Effect),交變電流僅沿導體表層流動,且信號頻...
              高頻板材銅箔粗糙度過大,白光干涉儀削弱  集膚效應 (Skin Effect) 降低高速信號傳輸損耗
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              白光干涉儀微區精度已趨飽和大視場高效測量成為當前研究重點
              白光干涉儀(White Light Interferometer, WLI)依托短相干干涉原理,經過多年技術迭代,小范圍微區的亞納米級垂直測量能力已趨于飽和,算法...
              白光干涉儀微區精度已趨飽和大視場高效測量成為當前研究重點
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              USI白光掃描多層微納工件形貌檢測數據異常機理及優化技術分析
              本文基于設備官方技術手冊與工業實測數據,剖析通用掃描干涉算法(Universal Scanning Interferometry, USI)在半導體多層復合結構檢...
              USI白光掃描多層微納工件形貌檢測數據異常機理及優化技術分析
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